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R&DÇöȲ

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R&DÇöȲ
KOVA Pursues Creativity and State of the Art Techonology.

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Áø°ø ¹× ´ë±â¾ÐÁ¦¾î ºê·¹ÀÌ¡
ºê·¹ÀÌ¡ : ºê·¹ÀÌ¡(brazing)À̶õ 450¡É ÀÌ»ó ¸ðÀç(base metal)ÀÇ ¿ëÀ¶Á¡ ÀÌÇÏÀÇ ¿Âµµ¿¡¼­ Á¢Çպθ¦ °¡¿­ÇÏ¿© ¸ðÀç´Â ³ìÀÌÁö ¾Ê°í ¿ë°¡À縸 ³ì¿© ¸ðÀ縦 Á¢ÇÕÇÏ´Â ±â¼ú
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R&D ±â¼ú°³¹ß ÀÀ¿ë½ÇÀû
Çï·ý ¸®Å©Å×½ºÆ® ¼³ºñ(He Leak Test Machine)
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  • °¡¿­¿ÂµµÀÇ ±ÕÀϵµ Çâ»ó
    • Laser¿­¿øÀ» ÀÌ¿ëÇÏ¿© ±ÕÀÏÇÑ ¿Âµµ Unifomity ±¸Çö °¡´É
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    • Auto Turret ±¸ÇöÀ¸·Î ÀüÈÄ °øÁ¤ ¼³ºñ¿Í InlineµÈ ¼³ºñ ±¸¼º °¡´É
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Harmet -1000
Çٽɿ¬±¸»çÇ× : ±Ý¼ÓÀç·á¿¡ °í°æµµ¸·ÄÚÆÃ (2000HV ~ 4500HV)
Harmet -1000 ÁÖ¿ä»ç¾ç
  • Chamber ¨ª1000x1500H Jig ¨ª700x1000
  • Plasma Ư¼º ºÐ¼®
    • Plasma(MF/RF)
    • Bias(DC, RF, Puls DC)
    • Endhole Type Ion Source
    • Closed Drift Ion Source
  • ¹Ú¸· ÄÚÆÃ
    • DC,RF (BMS,UBMS) 2ea È®Àå4°³¼Ò
    • REACTIVE Sputter °¡´É
    • PECVD °¡´É
    • ARC 4",5" 3°³¼ÒÀåÂø(È®Àå 12°³¼Ò)
    • S-FCA Cathode ÀåÂø
  • ´Ù¾çÇÑ ÄÚÆÃÀ» À§ÇÑ À¯Æ¿¸®Æ¼
    • ´Ù¾çÇÑ Target
      - AiTi,AlCr,AlSi,Cr,Ag,Sn,Ni,SiO2,C...
    • ¹ÝÀÀ¼º Gas Á¦¾î±â´É
      - Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
    • ÇÏÀ̺긮µå ÄÚÆÃ Á¦¾î
      - Sputter+AIP+PECVD
    • ¹Ú¸· Ư¼ººÐ¼®
      - ¾ËÆÄ½ºÅÜ-¸·µÎ²² ºÐ¼®
      - XRD-°áÁ¤±¸Á¶ºÐ¼®
      - UV/VIS spectrometer-Åõ°ú/¹Ý»çÀ² ÃøÁ¤
R&D ±â¼ú°³¹ß ÀÀ¿ë½ÇÀû
±Ý¼ÓÀÇ ¼Ò¼º°¡°ø¿ë ¾ÐÃâ ¡¤ ÀÎ¹ß Dise ±Ý¼Ó Press, PVC »çÃ⼺Çü¿ë ±ÝÇüÇ¥¸éÀÇ Hard Coating
±Ý¼ÓÀý»è°ø±¸ ¹× ³»¸¶¸ð¼ºÀÌ ¿ä±¸µÇ´Â °¢Á¾ Ä¡°ø±¸·ù
Harmet -800DLC
Çٽɿ¬±¸»çÇ× : ±Ý¼Ó ¹× ¼öÁöÀç·á¿¡ °í°æµµ¸·ÄÚÆÃ (1500HV ~ 4500HV)
Harmet -800DLC ÁÖ¿ä»ç¾ç
  • Chamber ¨ª1000x 2900H Jig ¨ª700x1850H
  • Plasma Ư¼º ºÐ¼®
    • Plasma(DC/RF)
    • Bias(DC, RF, Puls DC)
  • DLC (Diamond Like Carbon) ¹Ú¸· ÄÚÆÃ
    • DC,RF PECVD
  • ´Ù¾çÇÑ ÄÚÆÃÀ» À§ÇÑ À¯Æ¿¸®Æ¼
    • ¹ÝÀÀ¼º Gas Á¦¾î±â´É
      - Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
    • ¹Ú¸· Ư¼ººÐ¼®
      - ¾ËÆÄ½ºÅÜ-¸·µÎ²² ºÐ¼®
      - XRD-°áÁ¤±¸Á¶ºÐ¼®
      - ¹ÐÂø·Â,Ç¥¸é°æµµ(1500HV~4500HV)
      - ¸¶Âû°è¼öÃøÁ¤ µî
R&D ±â¼ú°³¹ß ÀÀ¿ë½ÇÀû
±Ý¼ÓÀý»è°ø±¸ÀÇ °í°æµµ ¹× ³»¸¶¸ð¼º ¡¤ Àå¼ö¸íÀÌ ¿ä±¸µÇ´Â °ø±¸·ù ÀÚµ¿Â÷ºÎǰÀÇ ³»¸¶¸ð¼º ¹× À±È°¼ºÀÌ ¿ä±¸µÇ´Â °¢Á¾ ºÎǰ·ù
±Ý¼Ó°¡°ø Ä¡°ø±¸ ¶Ç´Â ºÎǰ Ç¥¸éÀÇ ³»¸¶¸ð¼º,
°íÀ±È°¼ºÀÌ ¿ä±¸µÇ´Â °¢Á¾ Ư¼ö ºÎǰ·ù
Linemet - 4V
Çٽɿ¬±¸»çÇ× : ´ë¸éÀû Glass¿¡ ±Ý¼Ó¸· ÄÚÆÃ ¹× Color ÄÚÆÃ
Linemet - 4V ÁÖ¿ä»ç¾ç
  • Chamber 1500Wx 1800Hx4°³ Jig 1200Wx1300H
  • Plasma Ư¼º ºÐ¼®
    • Plasma(MF/RF)
    • Bias(DC, RF, Puls DC)
  • ¹Ú¸· ÄÚÆÃ
    • DC,RF (BMS,UBMS) 2ea È®Àå4°³¼Ò
    • REACTIVE Sputter °¡´É
    • PECVD °¡´É
  • ´Ù¾çÇÑ ÄÚÆÃÀ» À§ÇÑ À¯Æ¿¸®Æ¼
    • ´Ù¾çÇÑ Target
      - AiTi,AlCr,AlSi,Cr,Ag,Sn,Ni,SiO2,C...
    • ¹ÝÀÀ¼º Gas Á¦¾î±â´É
      - Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
    • ÇÏÀ̺긮µå ÄÚÆÃ Á¦¾î
      - Sputter+AIP+PECVD
    • ¹Ú¸· Ư¼ººÐ¼®
      - ¾ËÆÄ½ºÅÜ-¸·µÎ²² ºÐ¼®
      - XRD-°áÁ¤±¸Á¶ºÐ¼®
      - UV/VIS spectrometer-Åõ°ú/¹Ý»çÀ² ÃøÁ¤
R&D ±â¼ú°³¹ß ÀÀ¿ë½ÇÀû
Mobile¿ë Glass Åõ¸í Touch Screen Panel
°ÇÃà¿ë ´ëÇü Glass¿¡ Àڿܼ± Â÷´ÜÀ¸·Î Energy Àý°¨ ¹× °¢Á¾ ColorÄÚÆÃ