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| R&D현황 |
| KOVA Pursues Creativity and State of the Art Techonology. |
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| 연구소 보유장비 |
| InnoMet-VH1100 |
| 핵심연구사항 : 수지계열 모재에 각종 금속코팅 및 Color 막코팅 |
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| InnoMet-VH1100 주요사양 |
- Chamber : Ø1100x1100 Jig Ø900x900
- Plasma 특성 분석
- Plasma(MF)
- Plasma(RF)
- Endhole Type Ion Source
- Closed Drift Ion Source
- 박막 코팅
- DC,RF CATHODE(BMS,UBMS) 3ea
- REACTIVE Sputter 가능
- PECVD 가능
- E-Beam에 의한 Multi Coating가능
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- 다양한 코팅을 위한 유틸리티
- 다양한 Target
- SUS, Al ,Cr,Ag,Sn,Ti,Ni,SiO2,ZrO2...
- 반응성 Gas 제어기능
- Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4...
- 실시간 박막 제어 System
- MDC-360
- 박막 특성분석
- 알파스텝-막두께 분석
- XRD-결정구조분석
- UV/VIS spectrometer-투과/반사율 측정
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| R&D 기술개발 응용실적 |
| 자동차Lamp, LED Reflector |
Mobile Phone Case |
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| Mobile Phone Touch Screen Film |
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| Harmet -1000 |
| 핵심연구사항 : 금속재료에 고경도막코팅 (2000HV ~ 4500HV) |
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| Harmet -1000 주요사양 |
- Chamber Ø1000x1500H Jig Ø700x1000
- Plasma 특성 분석
- Plasma(MF/RF)
- Bias(DC, RF, Puls DC)
- Endhole Type Ion Source
- Closed Drift Ion Source
- 박막 코팅
- DC,RF (BMS,UBMS) 2ea 확장4개소
- REACTIVE Sputter 가능
- PECVD 가능
- ARC 4",5" 3개소장착(확장 12개소)
- S-FCA Cathode 장착
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- 다양한 코팅을 위한 유틸리티
- 다양한 Target
- AiTi,AlCr,AlSi,Cr,Ag,Sn,Ni,SiO2,C...
- 반응성 Gas 제어기능
- Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
- 하이브리드 코팅 제어
- Sputter+AIP+PECVD
- 박막 특성분석
- 알파스텝-막두께 분석
- XRD-결정구조분석
- UV/VIS spectrometer-투과/반사율 측정
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| R&D 기술개발 응용실적 |
| 금속의 소성가공용 압출 · 인발 Dise |
금속 Press, PVC 사출성형용 금형표면의 Hard Coating |
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| 금속절삭공구 및 내마모성이 요구되는 각종 치공구류 |
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| Harmet -800DLC |
| 핵심연구사항 : 금속 및 수지재료에 고경도막코팅 (1500HV ~ 4500HV) |
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| Harmet -800DLC 주요사양 |
- Chamber Ø1000x 2900H Jig Ø700x1850H
- Plasma 특성 분석
- Plasma(DC/RF)
- Bias(DC, RF, Puls DC)
- DLC (Diamond Like Carbon) 박막 코팅
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- 다양한 코팅을 위한 유틸리티
- 반응성 Gas 제어기능
- Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
- 박막 특성분석
- 알파스텝-막두께 분석
- XRD-결정구조분석
- 밀착력,표면경도(1500HV~4500HV)
- 마찰계수측정 등
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| R&D 기술개발 응용실적 |
| 금속절삭공구의 고경도 및 내마모성 · 장수명이 요구되는 공구류 |
자동차부품의 내마모성 및 윤활성이 요구되는 각종 부품류 |
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금속가공 치공구 또는 부품 표면의 내마모성,
고윤활성이 요구되는 각종 특수 부품류 |
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| Linemet - 4V |
| 핵심연구사항 : 대면적 Glass에 금속막 코팅 및 Color 코팅 |
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| Linemet - 4V 주요사양 |
- Chamber 1500Wx 1800Hx4개 Jig 1200Wx1300H
- Plasma 특성 분석
- Plasma(MF/RF)
- Bias(DC, RF, Puls DC)
- 박막 코팅
- DC,RF (BMS,UBMS) 2ea 확장4개소
- REACTIVE Sputter 가능
- PECVD 가능
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- 다양한 코팅을 위한 유틸리티
- 다양한 Target
- AiTi,AlCr,AlSi,Cr,Ag,Sn,Ni,SiO2,C...
- 반응성 Gas 제어기능
- Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
- 하이브리드 코팅 제어
- Sputter+AIP+PECVD
- 박막 특성분석
- 알파스텝-막두께 분석
- XRD-결정구조분석
- UV/VIS spectrometer-투과/반사율 측정
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| R&D 기술개발 응용실적 |
| Mobile용 Glass 투명 Touch Screen Panel |
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| 건축용 대형 Glass에 자외선 차단으로 Energy 절감 및 각종 Color코팅 |
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