| |
| R&D现状 |
| KOVA Pursues Creativity and State of the Art Techonology. |
|
|
| 研究所保有设备 |
| InnoMet-VH1100 |
| 核心研究事项 : 在树脂系列毛料，各种金属镀膜及Color摸镀膜 |
 |
| InnoMet-VH1100 主要配置 |
- Chamber : Ø1100x1100 Jig Ø900x900
- Plasma 特性分析
- Plasma(MF)
- Plasma(RF)
- Endhole Type Ion Source
- Closed Drift Ion Source
- 薄膜镀膜
- DC,RF CATHODE(BMS,UBMS) 3ea
- REACTIVE Sputter 可以
- PECVD 可以
- 因E-Beam，Multi Coating可以
|
- 为多种镀膜准备的实用主义
- 多种Target
- SUS, Al ,Cr,Ag,Sn,Ti,Ni,SiO2,ZrO2...
- 反应性Gas控制功能
- Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4...
- 实时间薄膜控制System
- MDC-360
- 薄膜特性分析
- Alpha Step-摸厚度 分析
- XRD-决定结构分析
- UV/VIS spectrometer-透过/反射率测定
|
|
| R&D 技术开发应用业绩 |
| 汽车Lamp, LED Reflector |
Mobile Phone Case |
 |
 |
| Mobile Phone Touch Screen Film |
|
 |
|
|
|
| Harmet -1000 |
| 核心研究事项 : 对金属材料高硬度摸镀膜 (2000HV ~ 4500HV) |
 |
| Harmet-1000 主要配置 |
- Chamber Ø1000x1500H Jig Ø700x1000
- Plasma 特性 分析
- Plasma(MF/RF)
- Bias(DC, RF, Puls DC)
- Endhole Type Ion Source
- Closed Drift Ion Source
- 薄膜 镀膜
- DC, RF(BMS, UBMS) 2ea 扩展4个处
- REACTIVE Sputter 可以
- RECVD 可以
- ARC 4", 5" 3个小安装(扩12个处)
- S-FCA Cathode 安装
|
- 为多种镀膜准备的实用主义
- 多种Target
- AiTi,AlCr,AlSi,Cr,Ag,Sn,Ni,SiO2,C...
- 反应性Gas控制功能
- Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
- 混合动力镀膜控制
- Sputter+AIP+PECVD
- 薄膜特性分析
- Alpha Step-摸厚度 分析
- XRD-决定结构分析
- UV/VIS spectrometer-透过/反射率测定
|
|
| R&D 技术开发应用业绩 |
| 金属的塑性加工用挤压‧印发Dise |
金属Press, PVC注塑成型用金型表面的Hard Coating |
 |
 |
| 要求金属切削工具及耐磨耗性的各种修理工具类 |
|
 |
|
|
|
| Harmet -800DLC |
| 核心研究事项 : 在金属及树脂材料高硬度摸镀膜(1500HV ~ 4500HV) |
 |
| Harmet-800DLC 主要配置 |
- Chamber Ø1000x 2900H Jig Ø700x1850H
- Plasma 特性 分析
- Plasma(DC/RF)
- Bias(DC, RF, Puls DC)
- DLC(Diamond Like Carbon) 薄膜镀膜
|
- 为多种镀膜准备的实用主义
- 反应性Gas控制功能
- Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
- 薄膜特性分析
- Alpha Step-摸厚度分析
- XRD-决定结构分析
- 抓力, 表面硬度(1500HV~4500HV)
- 摩擦系数测定 等
|
|
| R&D 技术开发应用业绩 |
| 金属切削工具的高硬度及耐磨耗性-需要寿命的机机类 |
要求汽车部件的耐磨耗性及润滑性的各种部件类 |
 |
 |
要求金属加修理工具或者部件表面的耐磨耗性,
高润滑性各种特殊部件类 |
|
 |
|
|
|
| Linemet - 4V |
| 核心研究事项 : 在大面积Glass，金属摸镀膜及Color镀膜 |
 |
| Linemet-4V 主要配置 |
- Camber 1500W x 1800H x4个Jig200W x 1300H
- Plasma 特性分析
- Plasma(MF/RF)
- Bias(DC, RF, Puls DC)
- 薄膜镀膜
- DC, RF(BMS,UBMS) 2ea扩张4处
- REACTIVE Sputter 可以
- PECVD 可以
|
- 为多种镀膜准备的实用主义
- 多种Target
- AiTi,AlCr,AlSi,Cr,Ag,Sn,Ni,SiO2,C...
- 反应性Gas控制功能
- Ar,HMDSO,N2,O2,N2O,CH4,C2H2...
- 混合动力镀膜控制
- Sputter+AIP+PECVD
- 薄膜特性分析
- Alpha Step-摸厚度分析
- XRD-决定结构分析
- UV/VIS spectrometer-透过/反射率测定
|
|
| R&D技术开发应用业绩 |
| Mobile用Glass透明Touch Screen Panel |
 |
| 在建筑用大型Glass上用紫外线阻挡Energy降低及各种Color镀膜 |
 |
|
|
|
|
|
